源调校、光刻工艺适配的全套底层技术，是真正意义上的国产自主可控！
梁景徽深吸一口气，压下心中的激动，继续汇报后续规划，眼神无比坚定：
“而且我们团队在干式机型攻坚过程中，彻底吃透了193nmArF光源的全套技术逻辑。基于现有技术积累，193nmArF光源浸润式光刻机的技术路径已经完全打通，核心难点全部攻克！”
他简单解释其中的技术跨度，让苏诚清晰知晓突破的含金量：
“干式机型是以空气为介质，是193nm光刻的基础版本。
而浸润式机型是在物镜与晶圆之间加入超纯水作为介质，利用水的高折射率压缩等效波长。
能大幅提升曝光分辨率，制程能力、精度上限、适配场景全面升级，是下一阶段高端制程的核心设备。
现在技术图纸、算法模型、工艺方案全部定稿，不存在任何技术盲区，只差整机装配与调试！
根据团队最新工期测算，整套干式光刻机量产生产线，浸润式光刻机整机研发调试。
全部工程预计今年年底可以全面完工落地，届时我们将拥有完整的193nm级别光刻机量产能力，彻底打破海外封锁！”
看似平淡的汇报，背后却是足以颠覆国内半导体格局，补强国家硬核短板的惊天成果。
苏诚低头看着密密麻麻的精准实测数据，每一组参数都印证着技术的真实性与成熟度，眼底终于泛起一抹深邃的亮色。
他早已知晓结局，此刻依旧心生感慨。
在智能机赛道横扫行业，万众瞩目之时。
华创真正的底牌，从来不是一台触屏手机，而是这不受任何人掣肘的硬核底层工业技术。
“辛苦了。”
苏诚抬眼，真诚郑重，带着对科研人员的敬重：
“这大半年，整个实验室通宵攻坚，日夜钻研，顶住了技术空白、设备匮乏、海外技术封锁的三重压力，扛下了最难的阶段，你们是华创真正的根基。”
梁景徽郑重颔首：“请苏总放心，我们绝不辜负这次技术突破！”
苏诚稍作停顿，随即针对性敲定后续研发节奏，决策果断：
“后续研发节奏，我们调整一下。
浸润式光刻机技术难度更高，工艺更精密，可以稳步推进，慢慢打磨，不求速成。
但干式光刻机的整套量产设备与生产线，必须提速加急落地。
干式机型适配当下军工，工
本章未完，请点击下一页继续阅读！