第一百四十八章实现全方面国产
研发替代耗材的困难，远比想象中更加艰难。
氟化氩光刻胶的研发，几乎卡壳在每一个关键节点。
核心难点不仅是99.99%的超高纯度要求，更要保证光刻过程中的化学稳定性。
一旦在极紫外光照射下发生微小分解，就会污染晶圆，导致整批芯片报废。
国内现有技术生产的光刻胶，纯度最多只能达到92%，且稳定性极差，在模拟光刻环境中，不到五分钟就会出现分解迹象。
张磊带领攻坚组，把铺盖卷直接搬到了实验室，24小时连轴转，每天睡眠时间不足三小时。
他们要在数百种化学试剂中反复调试配方比例，优化提纯工艺，每一次实验都要经历“配制-提纯-检测-失效”的循环。
实验室的空气中，氟化氩的刺鼻气味像针一样扎进鼻腔，团队成员的眼睛被刺激得红肿流泪，手指因为长期接触化学试剂，泛起一层细密的红疹，却没人敢有丝毫懈怠。
前数十次实验，不是纯度不达标，就是稳定性测试失败。
检测仪器上的红色警示灯，像一盆盆冷水，浇在每个人的心上。
七天七夜的煎熬后，第37次实验终于迎来转机。
当检测仪器的数值稳定在“纯度99%，稳定性达标”时，实验室里爆发出压抑已久的欢呼。
张磊看着眼中的试验品，声音沙哑得几乎不成调：
“成了！我们真的造出合格的光刻胶了！”
“虽说与国外上99.99%的纯度还有差距，但也足够脑机接口使用了。”
......
光刻胶虽有所突破，可挑战并未结束。
碳化硅反射镜片的研发同样陷入僵局。
这种镜片需要在纳米级精度的基底上，镀上数十层超薄膜，每层膜的厚度误差不能超过0.2微米，否则就会影响极紫外光的反射效率。
国内合作的光学企业，即便借鉴了启元光刻机的光学设计理念，初期生产的镜片也频频出现镀膜脱落、精度偏差的问题。
技术团队来回奔波于启元实验室和光学企业车间，每天召开三次研究会议，逐一排查镀膜材料、工艺参数、设备精度等问题，光是报废的镜片就堆成了小山。
直到第十天，他们才发现是镀膜时的温度控制存在微小偏差。
仅0.03摄氏度的波动，就导致了镀膜层的不稳定。
调整工艺后，第一批次
本章未完，请点击下一页继续阅读！